Zeiss — 蔡司

蔡司历史时间线 1846：Carl Zeiss 在德国耶纳开设工坊 1866：Ernst Abbe 加入，奠定光学科学基础 1890：推出首款基于 Abbe 理论的高品质显微镜 1902：Paul Rudolph 设计出 Planar 与 Tessar 镜头公式 1945：公司分裂为东德与西德两部分 1990：两德统一，蔡司耶纳与蔡司奥伯科亨合并 2000s：成为 ASML EUV 光刻关键供应商 2023：营收 €95 亿，70%+ 来自半导体与医疗技术

商业模式 四大板块： Semiconductor Manufacturing Technology（ASML 光刻机光学件） Medical Technology（手术显微镜、眼科设备） Industrial Quality & Research（测量系统、显微镜） Consumer（相机镜头、眼镜片、vivo/小米等手机光学件）

护城河分析 ASML EUV 光刻机光学件唯一供应商——没有蔡司，尖端芯片无法制造。 175+ 年光学专利与经验；Planar、Sonnar、Tessar 等蔡司镜头公式是现代镜头设计基石。

关键数据 成立：1846 年，德国耶纳（现总部奥伯科亨） 2023 营收：€95 亿 员工：约 43,000 人 半导体收入占比：约 50%+ 核心技术：ASML 用 EUV 光刻光学件

有趣事实 全球半导体产业的真正瓶颈就是蔡司光学——ASML 那台 €3.5 亿的 EUV 机器，离开原子级抛光的蔡司反射镜便无法运行。 1896 年设计的 Zeiss Planar 镜头公式至今仍在使用，几乎所有手机大光圈标准镜头都基于它。